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      氮化锆靶材ZrN磁控溅射靶材

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      氮化锆靶材ZrN磁控溅射靶材

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      • 商品名称:氮化锆靶材ZrN磁控溅射靶材
      • 自定义分类:金属靶材
      • 上架时间:2021/2/1 11:19
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      产品关键词: 氮化锆靶材,ZrN靶材,磁控溅射靶材,

      科研实验专用氮化锆靶材ZrN磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

      产品介绍

           氮化锆(ZrN)不溶于水,微溶于无机酸,溶于浓硫酸、氢氟酸、王水。化合物随着成份的变化而有多种晶体结构,它们不但具有优异的化学性质,不仅可以用在Josephson结,扩散式迭层,低温度计等,还可以使用在三维集成电线圈,金属基晶体管上。同时这些ZrN化合物在耐磨、抗氧化和抗腐蚀等方面优于纯锆,而且具有较高的超导临界温度,所以可以有可能成为很好的超导体,具有很高的使用价值。

      产品参数

      中文名 氮化锆       分子式  ZrN      

      密度 7.09g/cm3    熔点 2980℃±50℃

      分子量  105.23      纯度 99.5%

      支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

      服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

      产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

      适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

      质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

      加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

      陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

            我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

            注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

            建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。


      产品关键词: 氮化锆靶材,ZrN靶材,磁控溅射靶材,
      氮化锆靶材ZrN磁控溅射靶材
      温馨提示: 以上是关于“氮化锆靶材ZrN磁控溅射靶材”的详细介绍,产品由“北京京迈研材料科技有限公司”为您提供,如果您感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您,您也可以查看更多与“其他”相关的产品!
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